常規沉積涂覆工藝的缺點:
涂層厚度為毫米量級會影響電子產品的外觀及性能。
設備工作原理:
Pluto-MC利用等離子體改性時,將試樣置于特定的離子處理裝置中,通過高能態的等離子轟擊試樣的表面,將能量傳遞給試樣表層的分子,使試樣發生
熱蝕、交聯、降解和氧化反應,并使試樣表面發生C-F鍵和C-C鍵的斷裂,產生大量自由基或引進某些極性基團,從而優化試樣表面的性能。
等離子體對其改性的主要途徑是引發表面接枝,具體方法是用非聚合氣體(如Ar,H2,O2,N2和空氣等)對樣品表面進行等離子體處理,使其表而形成活性自
由基,之后利用活性自由基引發功能性單體,使其在表面進行接枝聚合。利用沉淀反應進行表面改性,這是工業上目前應用最多的方法。
產品特點:
1.13.56MHz射頻電源與自動匹配系統,具備優異的穩定性與可重復性。
2.優化的氣體饋入與分布設計,提供優秀的處理均勻性。
3.可靈活設置的電極及電極的實時可控,滿足功能材料的大面積可控沉積。
4.精準安全的液態源供應系統,滿足不同功能材料的快速大面積沉積。
5.PLC提供穩定的過程控制,設備運行的實時參數通過顯示屏直觀呈現。
6.系統設置多級管理權限,集簡易的操作體驗與嚴謹的工藝管控與一體。